назад к списку
Учебно-технологический комплекс
«Упрочнение технологического инструмента и пар трения методами электродугового испарения и магнетронного распыления»
Комплекс позволит облегчить усвоение студентами материала по дисциплинам «теория и технология покрытий», а так же «процессы на поверхности раздела фаз», обеспечит приобретение навыков и компетенций в области разработки, получения и исследования составов и технологий получения функциональных наноразмерных покрытий.
В состав УТК входят:
-
Установка электродугового испарения ННВ-6,6-И1
1. Предельное остаточное давление в рабочей камере, за время до 15 минут 6.65*10-ЗПа (5*10-мм. рт. ст)
2. Рабочий вакуум от 5*10-3 до 5*10-4 мм. рт. ст.
3. Размеры рабочей камеры: Диаметр 600 30, Высота 600 20мм
4. Количество дуговых испарителей 3
5. Максимальная загрузка, кг 110
6. Скорость осаждения покрытии (нитрида титана), мкм/час От 13 до 40
7. Максимальная однородность 20
8. Система газонапуска на базе РРГ-9, 2 канала с электронным управлением, расход по каналу 1 л/час
-
Модернизированная и автоматизированная установка электродугового испарения и магнетронного распыления УРМ3.279.048
Наименование основных параметров и характеристик |
Значение |
1. Номаинальная мощность, кВт |
55 |
2. Количество дуговых испарителей, шт |
2 |
3. Максимальный ток дуговых испарителей, А |
120 |
4. Размер рабочего пространства вакуумной камеры
ширина, мм
длина, мм
высота, мм |
500
400
600 |
5. Количество планетарных механизмов и мест креплений подложек |
2/15 |
6. Длительность цикла, ч |
2 |
7. Скорость осаждения покрытия (нитрид титана) , мкм/ч |
от 2 до 8 |
8. Максимальный ток источника питания подложки А |
8 |
9. Диапазон плавного регулирования величины напряжения высоковольтного источника питания: подложки, В |
до 1000 |
10. Диапазон плавного регулирования величины напряжения низковольтного источника питания: подложки, В |
до 500 |
11. Остаточное давление в камере, Па |
1,33*10-3 |
-
Автоматизированная промышленная установка UniCoaT 600
Назначение: для производства широкого спектра современных упрочняющих и многофункциональных покрытий (в т.ч. нанокомпозитные покрытия) на металлических изделиях, а также для проведения научно-исследовательских работ по разработке новых типов нанокомпозитных покрытий.
- размеры рабочей камеры диам.400 х 600 мм;
- предельное значение вакуума в рабочей камере 6x10-3 Па;
- время достижения в камере давления 6х10-3 Па без прогрева рабочего объема камеры, при рабочем режиме диффузионного насоса с начала откачки воздуха из камеры не более 30 мин.;
- максимальный ток смещения на изделиях в диапазоне 0-150 В - 20 А, в диапазоне 650-1200 В -ЗА;
- ток разряда каждого магнетрона, регулируемый 1-20 А;
- подача рабочих газов (азот, метан, аргон) с точностью поддержания заданного расхода не более 1.2%, заданного давления не более 5 %;
- контролируемый диапазон частоты вращения планетарного механизма - 0-40 об/мин.;
- время напуска воздуха в камеру не более 60 с;
- потребляемая мощность установки в режиме откачки не более 10 кВт, в режиме напыления не более 30 кВт;
- зона развески изделий диам. 240 х 350 мм;
- дуальные магнетронные распылительные системы - 1 пара магнетронов, размер мишеней 470 х 80 х 6 мм;
- средний уровень звукового давления не более 75 дБ;
- среднее время восстановления работоспособного состояния не более 3 ч; -двухуровневая система управления - PLC на базе микроконтроллера Fastwell компьютер на базе P-IV, пневматика фирмы SMC (Япония) или эквивалент;
- технологические программы нанесения покрытий традиционных покрытий ТН - TiN, TiCN, CrN, TiAIN, TiN-TiCN или эквивалент;
- технологические программы нанесения нанокомпозитных покрытий НК- AlTiN, AlCrN. Al-SiTiN. AlSiTiN или эквивалент;
На базе перечисленного оборудования разрабатываются 7 лабораторных работ:
-
Технологический процесс осаждение однослойного наноразмерного покрытия методом электродугового испарения;
-
Технологический процесс осаждения однослойного наноразмерного покрытия методом магнетронного распыления;
-
Технологический процесс осаждения однослойного наноразмерного покрытия комбинированным методом: одновременно протекающие процессы электродугового испарения и магнетронного распыления;
-
Технологический процесс осаждения многослойного наноразмерного покрытия методом электродугового испарения;
-
Технологический процесс осаждения многослойного наноразмерного покрытия методом магнетронного распыления;
-
Технологический процесс осаждения многослойного наноразмерного покрытия комбинированным методом: одновременно протекающие процессы электродугового испарения и магнетронного распыления;
-
Исследование физико-химических образований наноструктур на межзфазных поверхностях раздела.
В дополнение к перечисленному выше оборудованию разрабатываются:
-
программное обеспечение для проведения 7 лабораторных работ;
-
электронное описание 7 лабораторных работ;
-
отрабатываются технологические процессы осаждения многокомпонентных наноструктурированных покрытий.
|